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案例丨降低60%能耗,优越会GEG如何让半导体企业VOCs解决方案实现高效节能

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半导体行业VOCs废气主要来源于光刻、显影、刻蚀及扩散等工序。在这些工序中,使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量的有机成分。上海一家大规模集成电路芯片制造公司为改善其生产车间环境,需要对废气进行有效治理。针对该项目废气特点, 优越会GEG为企业设计并实施了一套VOCs治理系统,经系统处理后的尾气浓度远低于国家及地方标准,同时大幅降低了企业的运行成本。

 

废气来源及特点

本项目废气主要来源于集成电路制造过程中清洗、涂胶、显影和湿法去胶等工序产生的有机废气。

1)废气有机物浓度较低,风量较大。废气风量85000Nm3/h,浓度150mg/m3

2)废气中的有机硅氧化会生成二氧化硅,可能堵塞RTO和沸石转轮。

3)废气含有光刻胶,长期运行会对后续管道、设备、烟囱产生堵塞。

 

优越会GEG解决方案

针对客户车间尾气特点,优越会GEG采用了特殊设计的预处理+沸石转轮系统+RTO+余热利用系统,处理之后的排放浓度常年低于5mg/m³,治理排放指标远优于国家及地方最新排放标准。

1)采用了KPR+RTO工艺,相较于客户其他厂区的TO炉治理工艺每年可以节约近百万立方米天然气消耗。

2)项目设置了应急排放旁路备用系统,系统检修时也能保证车间排风,避免半导体行业流片损失。

3)采用管路燃烧器替代优越会717线路检测,避免换热系统及沸石转轮堵塞。

4)优越会GEG私有云平台服务,实时监管稳定运行,废气持续达标排放。

 

项目风采

 

 

 

半导体行业废气中的部分成分易导致管路和设备堵塞,在选择VOCs解决方案时需要注意预处理及热能利用方案的选择;若采取不当的措施,极容易在运行阶段对设备本体造成无法修复的影响和损伤。优越会GEG可针对实际工况,为客户定制化进行系统设计和优化,帮助企业解决废气处理难题,持续为客户创造价值,助力双碳目标达成。

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